實(shí)驗(yàn)室集中供氣的優(yōu)點(diǎn)

1、保持氣體純度

2、不間斷氣體供應(yīng)：系統(tǒng)可以以手動(dòng)方式和自動(dòng)方式在氣瓶之間進(jìn)行切換，保證氣體連續(xù)供應(yīng)

3、低壓警示：當(dāng)氣壓低于警報(bào)限時(shí)，報(bào)警裝置可自動(dòng)啟動(dòng)報(bào)警

4、氣體壓力穩(wěn)定：系統(tǒng)采用兩級(jí)減壓方式供氣，可得到非常穩(wěn)定的壓力

5、率：通過(guò)供氣控制系統(tǒng)，可充分使用氣瓶中的氣體，減少殘氣余量，降低用氣成本

6、操作簡(jiǎn)便：所有氣瓶存放在同一位置，減少搬運(yùn)安裝的操作，節(jié)約時(shí)間和成本費(fèi)用

7、無(wú)氣瓶在實(shí)驗(yàn)室：可提高安全性、提高安全感、節(jié)省實(shí)驗(yàn)室操作空間

本信息由艾明坷為您提供，如果您想了解更多產(chǎn)品信息，您可撥打圖片上的電話咨詢，艾明坷竭誠(chéng)為您服務(wù)！

電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏檢測(cè)規(guī)定

1、氦檢漏儀表應(yīng)采用質(zhì)譜型氦檢測(cè)儀，其檢測(cè)精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測(cè)漏法測(cè)定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、閥座測(cè)漏法測(cè)定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向測(cè)漏法測(cè)定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦檢漏發(fā)現(xiàn)的泄漏點(diǎn)經(jīng)修補(bǔ)后，應(yīng)重新經(jīng)過(guò)氣密性試驗(yàn)，合格后再按規(guī)定進(jìn)行氦檢漏。所有可能泄漏點(diǎn)應(yīng)用塑料袋進(jìn)行隔離。系統(tǒng)測(cè)試完畢，應(yīng)充入高純氮?dú)?，并進(jìn)行吹掃。測(cè)試完畢后，應(yīng)提交測(cè)試報(bào)告。

小流量氣體凈化系統(tǒng)

高純供氣系統(tǒng)主要應(yīng)用于鋼瓶氣、管道氣及氣體發(fā)生器等的高純連續(xù)供氣，應(yīng)用于超微量水、氧分析儀、氣相色譜儀、常壓離子質(zhì)譜儀等各類氣體分析儀器純化載氣或零點(diǎn)氣，也可用于超高純度氣體管道安裝施工中的吹掃氣體，更可以為半導(dǎo)體工藝設(shè)備提供超高純的工藝氣體。不應(yīng)在封閉空間內(nèi)用惰性氣體（如氮?dú)?、二氧化碳等）進(jìn)行實(shí)驗(yàn)分析、燒焊、低溫冷藏、吹除等等。

氣體凈化系統(tǒng)根據(jù)需求采用常溫或者高溫吸附劑，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，出氣口配置微米過(guò)濾器，其氣體純化指標(biāo)達(dá)到各項(xiàng)雜質(zhì)含量小于1ppb的世界先進(jìn)水平。

氣體配比儀采用質(zhì)量流量計(jì)，電化學(xué)拋光316L不銹鋼管件，雙卡套或者VCR氣體接頭。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來(lái)越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。高純氣體的輸送管路系統(tǒng)隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來(lái)越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0。